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    四靶磁控溅射镀膜机

    用于磁控溅射镀膜。可一次完成工艺相同或不同的四个样品的镀膜任务。

    磁控靶:4”(Ф100),4个

    自转样品架:4个

    极限真空度:5×10-5Pa

    全程控镀膜工艺过程

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